光学模压模具退膜——离子刻蚀机 纯源镀膜

RIE(Reactive Ion Etching)离子刻蚀机：系列设备为真空等离子刻蚀机属于电子工业的干法清洗，工艺气体在电子区域形成等离子体，并产生电离气体和释放高能电子组成的气体，电离气体原子通过电场加速时，会释放足够的力量与表面驱逐力紧紧粘合材料或蚀刻表面，等离子体在工件表面发生反应，从而实现清洁、改性、刻蚀的目的，Zui后将污染物转换为气相，并通过真空泵用连续气体流将其排出。

特点及优势：

Ø  可定制刻蚀范围φ100-800mm, 支持单源或多源组合；

Ø  刻蚀温度低于80℃，很好的兼容热敏感材料；

Ø  自由调节的刻蚀距离及速率，满足敏感材料应用需求。

Ø  等离子体密度高，刻蚀清洗效果好，具有良好的均匀性；

Ø  采用通用接口尺寸，模块化设计、互换性强，维护方便；

Ø  交钥匙设备，纯源公司提供整套解决方案，设备交接后即可投产；

应用领域：

Ø  可刻蚀材料:金属，非金属，合金，半导体 (单晶硅、非晶硅、多硅，SO1)，金属氧化物，氮化物，碳化物，陶瓷，聚合物，超导材料等:>可褪碳基薄膜，可作为DLC/Ta-C薄膜的褪膜机使用

Ø  可应用在:3C消费电子，电子元器件，光学，交通工具，刀具模具，家电，新能源，医疗，科研等行业。